在光電顯示領(lǐng)域，其液晶品種從TN→STN→TFT的逐步升級；從黑白到彩色，從低分辨率向高分辨率，從小屏幕到大屏幕的發(fā)展已成為必然趨勢。原有的超聲、化學(xué)清洗已不能滿足當(dāng)前清洗潔凈度要求?；驹砼c傳統(tǒng)的清洗技術(shù)如化學(xué)法、物理法（例超聲波）不同，與新近發(fā)展的等離子體清洗、激光清洗等也有較大不同。主要是應(yīng)用光化學(xué)原理與技術(shù)，技術(shù)關(guān)鍵在于特種大功率短波紫外、真空紫外光源。其原理為利用光子能量將有機(jī)物的高分子鏈、大分子鏈，斷裂成小分子、原子、自由基等；及將空氣中的氧分子變成臭氧O3。O3再經(jīng)光子的作用產(chǎn)生激態(tài)氧原子O*，O*將斷裂后的有機(jī)物質(zhì)強(qiáng)氧化變成CO, CO2,H2O等揮發(fā)，隨排氣并排出，不留任何痕跡，屬干式法，無接觸型；常溫、常氣壓下無損傷，不使用任何化學(xué)藥品，環(huán)保無二次污染；對物體表面的較難清洗的油脂及有機(jī)污染物有特殊清洗效果。大功率特種專用紫外光源是其中的關(guān)鍵技術(shù)，其波長已延伸到真空紫外波段.我公司經(jīng)幾年攻關(guān)已完成多項(xiàng)專利技術(shù)，如：真空紫外光譜儀，大功率熱、冷陰極光清洗機(jī)專用光源，清洗效果測試設(shè)備等。我公司的光清洗機(jī)系列產(chǎn)品，主要創(chuàng)新點(diǎn)是：寬溫區(qū)恒照度、大功率紫外光源、優(yōu)化氣氛控制的自控系統(tǒng)、自動化程度高、自凈化設(shè)計(jì)等。具有，工作穩(wěn)定，利用光子作用實(shí)現(xiàn)了對污染物的分解、氧化、氣化，并被排除.     本產(chǎn)品除用于液晶生產(chǎn)中需清洗的各道工序外，還有十分廣泛的領(lǐng)域如：ITO玻璃、光學(xué)玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理，在液晶顯示器件、半導(dǎo)體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料等領(lǐng)域。