金屬網(wǎng)

　?。∕etal Network）

　　人眼對于線條的鑒別度約在6um左右，因此線徑小于6um金屬網(wǎng)可布成裸眼看不到金屬線的透明導電膜。由于金屬的導電性較佳，只要少量的金屬材料即可布成高導電薄膜，是較具潛力的技術。

　　金屬網(wǎng)薄膜可以利用蝕刻、網(wǎng)印形成圖案可控制的金屬網(wǎng)格（Metal Mesh），也可以利用金屬粒聚集或是奈米金屬線交織成圖案不定型的金屬網(wǎng)絡（Metal Web）。

　　金屬網(wǎng)格

　　（Metal Mesh）

　　蝕刻的銅金屬網(wǎng)格是一個成熟的產(chǎn)品，過去電漿顯示器（Plasma Display）就應用銅金屬網(wǎng)格作電磁遮蔽（EMI）。

　　以傳統(tǒng)曝光、顯影、蝕刻等黃光制程的金屬網(wǎng)格透明導電膜已經(jīng)商品化，并且應用到觸控面板產(chǎn)業(yè)。利用Cu2O／Cu／Cu2O結(jié)構(gòu)，學者Kim發(fā)表線寬7um、格距450um的金屬網(wǎng)格透明導電膜，在電阻15．1Ω／sq時穿透率可達89％。

　　有別于黃光的蝕刻制程，直接在基板印制網(wǎng)格的制程更多樣。日本富士膠卷（Fujifilm）開發(fā)銀鹽曝光技術，首先在基板上面進行溴化銀涂布，然后經(jīng)過曝光、洗銀等程序制出網(wǎng)格圖案，再以化學增厚制作銀金屬網(wǎng)格。

　　或是利用準確網(wǎng)印（Direct Printing Technology，DPT）印制20um線寬的銀網(wǎng)，片電阻0．5～1．6Ω／sq，光穿透率達78％～88％。日本Komura－Tech以凹版轉(zhuǎn)?。℅ravure Offset）印制達5um線寬的透明導電膜。

　　也有學者以噴墨印刷方式直接印出網(wǎng)格，面阻值達0．3Ω／sq。印刷法制程大挑戰(zhàn)在于大面積范圍，印制5um以下的線寬頗具挑戰(zhàn)。

　　此外、不管用哪一種印刷法，奈米金屬漿料都要經(jīng)過燒結(jié)才能形成導電性佳的網(wǎng)格，高分子柔性基板耐熱能力差，燒結(jié)時奈米金屬較易氧化等都是須克服的問題。

　　雷射燒結(jié)可以同時達到網(wǎng)格圖案化與高溫燒結(jié)的目的，可用銅奈米粒子雷射燒結(jié)，或以奈米銀粒子雷射燒結(jié)，分別制出銅金屬網(wǎng)格、與銀金屬網(wǎng)格如（圖7）。其中銀金屬網(wǎng)格之片電阻在30Ω／sq以下，光穿透率大于85％。

　　金屬網(wǎng)絡

　?。∕etal Web）

　　相對于經(jīng)過設計，并透過制程成形的金屬網(wǎng)格，自然形成的金屬網(wǎng)絡可省略圖案化制程，卻可以達到形成導電網(wǎng)絡的目的。

　　利用懸浮液干燥時固體會聚集形成咖啡環(huán)（Coffee Ring）的效應，適當?shù)膽腋∫焊稍锍赡ず罂梢宰孕蚪M裝（Self Alignment）自然形成金屬網(wǎng)絡；利用奈米金屬線交錯也可以形成導電金屬網(wǎng)絡，分述如下。

　　懸浮液干燥時固體會聚集形成環(huán)稱為咖啡環(huán)效應，奈米銀經(jīng)過特殊的墨水設計，可以在液體揮發(fā)干燥后讓奈米銀自動形成網(wǎng)絡，而省去印刷圖案化的制程。

　　學者Tokuno巧妙的利用氣泡破裂自動形成奈米銀線聚集網(wǎng)絡，經(jīng)過燒結(jié)可以形成面電阻6．2Ω／sq，穿透度達84％的透明導電膜（圖8），美國Cima Nano Tech也利用類似的原理制作透明導電膜。圖9即為使用該公司開發(fā)特殊墨水形成的金屬網(wǎng)絡。

　　另一種金屬網(wǎng)絡是由奈米金屬線所組成，奈米金屬線非常纖細，肉眼無法察覺線的存在，奈米金屬線交織的金屬網(wǎng)絡，可形成導電度較佳的透明導電膜。

　　利用奈米金屬線的搭接形成的金屬網(wǎng)絡（圖10），制造工序更簡單，成本更低廉。

　　以化學法合成奈米銅線，學者Guo發(fā)表在51．5Ω／sq下，光穿透度可達到93．1％的透明導電膜；銀的導電度比銅好，少量奈米銀線即可交織成高導電度，高穿透率的透明導電膜。

　　另名學者Jia發(fā)表電阻21Ω／sq，光穿透度達93％的軟性透明導電膜，其優(yōu)越的可撓性與觸控面板的展示如圖11所示。

　　大面積奈米銀線透明導電膜連續(xù)生產(chǎn)的技術已日臻成熟，研究人員以連續(xù)卷對卷的狹縫涂布（Slot－die Coating），制出400mm幅寬的柔性奈米銀線透明導電膜，面電阻30Ω／sq時，光穿透度可達90％。

　　惟奈米銀線高長徑比的材料特性，使得涂布均勻度難以控制，因此開發(fā)能夠掌控均勻度的制程與設備是奈米銀線透明導電膜產(chǎn)品產(chǎn)業(yè)化的關鍵之一。

　　柔性透明導電膜技術

　　發(fā)展三大趨勢

　　綜觀以上幾種柔性透明導電膜技術發(fā)展，在可撓、光穿透、導電三大特性都有一定的開發(fā)成果，以下就從材料特性、量產(chǎn)制程、技術成熟度探討其未來發(fā)展。

　　材料特性

　　導電度與光穿透度是柔性透明導電膜重要的光電特性，高導電度下仍然能維持高光穿透度是產(chǎn)品發(fā)展的趨勢。

　　為比較前述幾種柔性透明導電膜技術，筆者以近幾年各研究單位發(fā)表的面電阻與光穿透度成果來評價各種柔性透明導電膜技術，如圖12所示。